DSpace
 

University of Fukui Repository (UFR) >
310 大学院工学研究科・工学部 >
311 学術雑誌論文 >
01 雑誌等掲載論文 >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10098/2162

タイトル: Effect of gas flow on the growth of In-rich AlInN films by metal-organic chemical vapor deposition
著者: KANG, Ting-Ting
YAMAMOTO, Masatomo
TANAKA, Mikiyasu
HASHIMOTO, Akihiro
YAMAMOTO, Akio
康, 亭亭
山本, 政智
田中, 幹康
橋本, 明弘
山本, 暠勇
発行日: 8月-2009
出版者: American Institute of Physics
掲載誌: Journal of Applied Physics
巻: 106
資料タイプ: Journal Article
URI: http://hdl.handle.net/10098/2162
ISSN: 00218979
出現コレクション:01 雑誌等掲載論文

このアイテムのファイル:

ファイル 記述 サイズフォーマット
J.Applied .Physics Vol.106..pdf537.12 kBAdobe PDF見る/開く

このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。

 

Valid XHTML 1.0! Powered by DSpace Software Copyright © 2002-2007 MIT and Hewlett-Packard - ご意見をお寄せください